從作用方向上來看。薄膜應力有張應力和壓應力之分。若薄膜具有沿膜面膨脹的趨勢則基底對薄膜產生壓應力,如圖1-2-1(a)所示;相反,薄膜沿膜面的收縮趨勢造成張應力,如圖1-2-1(b)所示。一般定義張應力為正應力,壓應力為負應力。過...[繼續閱讀]

    在薄膜中取一個微區,其大小為Δx,Δy,Δz,如圖1-2-4所示[3,4]。圖1-2-4　薄膜中微區應力取向示意圖在受力狀態下,一般可以表現為6個正應力(應力方向與坐標軸平行,分別為σx,σy,σz,σ-x,σ-y,σ-z)和6個切應力(取向位于坐標軸垂直的平面內...[繼續閱讀]

    薄膜的內應力主要來源于薄膜本身微結構的變化,這種變化包含以下幾層含義:①薄膜與相應的薄膜材料具有相同的晶系,但是受沉積參數及其他因素的影響,薄膜的晶格常數或晶胞結構發生了變化;②相對于體材料,薄膜具有多孔、低維...[繼續閱讀]

    1.2.4.1　薄膜應力形成的主要機制在薄膜材料和基底材料確定以后,沉積參數和處理過程是影響薄膜應力狀態的重要因素。表1-2-1為薄膜應力的幾種誘因,可以看出,薄膜應力的諸多形成和發展的因素基本都是與薄膜的制備過程相關[6～...[繼續閱讀]

    1.2.5.1　多層膜應力的物理模型為了實現特定的光譜性能,光學薄膜多數是由多層膜組成。與單層膜不同,多層膜的應力發展涉及多種薄膜材料的熱物參數的組合及多個界面的力學匹配問題,其物理過程比單層膜更復雜。下面對多層膜中...[繼續閱讀]

    一般條件下,薄膜應力的測量都是在薄膜制備以后,甚至是放置了很多天以后進行。所得到的薄膜應力是薄膜的終態應力,它不僅包含了薄膜應力發生發展的全部信息,還包含了薄膜制備之后,環境、時效及所有的物理化學過程對薄膜應力...[繼續閱讀]

    在一定條件下薄膜的應力可以導致薄膜局部破裂,薄膜應力破壞表現為以下幾種形式:表面裂紋、表面起皺、局部破坑,膜層脫落。這幾個現象有時是獨立存在的,更多地表現為薄膜應力破壞的幾個相關聯的發展過程。在1.2.5.2節中,已經...[繼續閱讀]

    [1]TeixeiraV.MechanicalinPVDcoatingduetothepresenceofresidualstress[J].Thinsolidfilms,2001(392):2796-281.[2]竹內洋一郎.熱應力[M].北京:科學出版社,1977.[3]LaugierM.Ananalysisofthecantileveredplatemethodofthinfilmintrinsicstressdetermination[J].Thinsolidfilms,1980,66(2):L7...[繼續閱讀]

    光學薄膜的膜系結構一般都比較復雜。在電子計算機出現以前,一般光學薄膜性質的計算都很難實現,更談不上膜系設計。所以,早期的薄膜膜系除了層數很少的減反射或分光膜以外,基本都是以λ/4為基本單元的規整膜系。計算分析也基...[繼續閱讀]

    分析設計法對一些結構簡單且波長數不多的薄膜是比較有效的。但是對于一些復雜的光譜要求來講,自動設計方法在薄膜設計中的優越性是很明顯的。特別在計算技術和薄膜制備技術都得到高度發展的情況下,自動設計已經發展為主要...[繼續閱讀]